Генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявил, что тиражирование систем литографии с экстремальным ультрафиолетом (EUV) сталкивается с серьезными барьерами. По данным Sina Finance, он отметил, что существует огромный разрыв между возможностью создать такое оборудование и реальной способностью делать это.

Фуке сказал, что получение изображений в литографии EUV — это лишь отправная точка: для массового производства миллиардов чипов требуются высокая скорость, низкая стоимость, прецизионность на уровне нанометров, а также надежная доступность и устойчивость в работе. Он добавил, что одна машина EUV весит примерно 180 тонн, зависит от сотен поставщиков ключевых компонентов, включая Zeiss, и стоит более 400 миллионов долларов на создание; при этом сборка и калибровка занимают месяцы.

Он также сказал, что бум в сфере ИИ резко увеличил спрос на оборудование ASML. Microsoft, Meta, Amazon и Google планируют инвестировать более 600 миллиардов долларов в инфраструктуру, связанную с ИИ, а передовое производство чипов на TSMC, Samsung и Intel полностью зависит от инструментов ASML для EUV.

Фуке сказал, что даже при больших объемах венчурного капитала, поступающего в стартапы в области литографии, одних только денег недостаточно, чтобы преодолеть физические, цепочечные и инженерные барьеры. Он добавил, что ASML не должна успокаиваться и должна продолжать внедрять инновации год за годом.

Он сказал, что успех ASML обусловлен глубокой взаимосвязью и сотрудничеством в рамках всей ее экосистемы, включая клиентов и поставщиков. Фуке также заявил, что компания стала ключевым узловым центром в мировом производстве чипов и фактически обладает полной монополией в самом передовом сегменте EUV, используемом для сложных ИИ-чипов.