Actualités ME : Message du 15 septembre (UTC+8). Selon un bulletin rapide de Beating AI, Huang Renxun, lors du sommet All-In, estime que d’ici 2030, la Chine sera capable de produire ses propres systèmes de lithographie avancés. Il ajoute qu’une fois la technologie mûre, la Chine dispose d’une capacité de production à grande échelle très solide, et que l’arrivée des équipements domestiques dans les fonderies locales n’est qu’une question de temps. Ce jugement semble manifestement plus optimiste que celui de Zeiss. Le responsable des semi-conducteurs de Zeiss, Frank Rohmund, a récemment déclaré que pour que la Chine produise une machine de lithographie EUV domestique, il faudrait encore environ 15 ans. Zeiss est le fournisseur clé des systèmes optiques EUV d’ASML. Cependant, l’animateur demande des « systèmes de lithographie avancée » sans préciser qu’il s’agit d’EUV ; dans sa réponse, Huang Renxun ne précise pas non plus qu’il s’agit d’EUV. (Source : ME)