Samsung Foundry plant, seine 8-nm-Plattform der zweiten Generation, 8LPU+, noch in diesem Jahr einzuführen. Sie richtet sich an Chips für die Automobilindustrie, Robotik und Edge-KI. Laut Sina Finance bietet der neue Prozess im Vergleich zur vorherigen 8LPU-Generation 12 % mehr Leistung, 15 % weniger Stromverbrauch und eine um etwa 8 % kleinere Logikfläche.

Beim 8-nm-Prozess kommt Deep-Ultraviolett-Lithografie (DUV) zum Einsatz, während für fortschrittliche 5-nm-, 4-nm- und 2-nm-Prozesse kostspielige Extrem-Ultraviolett-Anlagen (EUV) erforderlich sind. Samsung zufolge integriert 8LPU+ planare 3,3-Volt-I/O-Bauelemente auf 8LPU-FinFET-Wafern und verringert dadurch die I/O-Fläche um etwa 10 %. Die Plattform bietet außerdem SRAM mit extrem niedrigen Leckströmen sowie eMRAM, das die Spezifikationen der Automotive Grade 1 erfüllt. Die Zellfläche beträgt 0,017 Quadratmikrometer, die Speicherdichte etwa 20 Megabit pro Quadratmillimeter.

Der Prozess soll auf KI-Mikrocontroller und Automotive-Zonensteuergeräte abzielen. Samsung zufolge zählen zu den potenziellen Kunden bestehende Kunden der 8-nm-Auftragsfertigung sowie Fabless-Chipunternehmen, die Automotive-Zertifizierungen anstreben.