Laut der „Korea Herald“ gaben Samsung Electronics und der niederländische Chipausrüster ASML am Dienstag bekannt, dass sie ihre langjährige Partnerschaft für Lithografie-Technologien der nächsten Generation ausbauen wollen, die zur Herstellung fortschrittlicher KI-Chips verwendet werden. Die erweiterte Zusammenarbeit wird sich auf hochnumerische Apertur-EUV-Lithografie (Extreme-Ultraviolet) und fortschrittliche Fotomasken-Lösungen konzentrieren. Diese dürften künftig noch wichtiger werden, da Chiphersteller an die Grenzen des technologischen Skalierens von Halbleitern stoßen.